Hochreines 99,95 % Wolfram-Sputtering-Target

1. Eine wichtige Methode zur Herstellung von Dünnschichtmaterial ist das Sputtern – eine neue Methode der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD).Der von target hergestellte Dünnfilm zeichnet sich durch hohe Dichte und gute Haftfähigkeit aus.Da die Magnetron-Sputtertechniken weit verbreitet sind, besteht ein großer Bedarf an hochreinen Metall- und Legierungstargets.Aufgrund ihres hohen Schmelzpunkts, ihrer Elastizität, ihres niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, ihres spezifischen Widerstands und ihrer feinen Wärmestabilität werden Targets aus reinem Wolfram und Wolframlegierungen häufig in integrierten Halbleiterschaltkreisen, zweidimensionalen Displays, Solarphotovoltaik, Röntgenröhren und Oberflächentechnik verwendet.

2. Es kann sowohl mit älteren Sputtergeräten als auch mit den neuesten Prozessausrüstungen wie großflächigen Beschichtungen für Solarenergie oder Brennstoffzellen und Flip-Chip-Anwendungen arbeiten.